天眼查App显示，2025年5月13日，「一种光学临近校正方法及计算机可读存储介质」正式进入专利公布阶段。申请人为合肥晶合集成电路股份有限公司，该项半导体技术专利涉及提高光学临近校正效率及减小边缘放置误差（EPE）的应用场景。据专利信息显示，该技术可显著优化光学临近校正迭代次数，提升校正效率。发明人为刘秀梅、罗招龙。本发明提供了一种光学临近校正方法及计算机可读存储介质，应用于半导体技术领域。在对原始版图中的所有主图形进行第一次光学临近校正后，可筛选出存在拼接缺陷的主图形，并重新进行光学临近校正以得到第二修正图形，从而减少迭代次数并实现更高的校正精度。

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