天眼查App显示，2025年5月13日，「一种冷却盘清洗方法」正式进入专利公布阶段。申请人为上海睿昇半导体科技有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司，该项清洁领域专利涉及半导体制造设备的冷却盘清洗技术。据专利信息显示，该方法能够显著优化冷却盘内部流道杂质的清洗效果，同时避免对冷却盘造成损伤。发明人为姚力军、占卫君、昝小磊、齐盼盼。 本发明公开了一种冷却盘清洗方法，具体包括以下步骤：S1、将脉冲气体发生器的出气管道与端面通孔连通；S2、设置脉冲气体发生器中的脉冲参数，循环周期为1分钟，每个循环周期包括第一充气时段和第二充气时段，分别设定不同的气压参数；S3、打开脉冲气体发生器的出气开关，按照脉冲参数向冷却盘输入低压脉冲气体；S4、待低压脉冲气体的通气时长达到预设时间后，结束通气。通过上述清洗方法，在对流道内部的杂质进行有效清洗的同时，还能避免对冷却盘内部流道造成损伤。

免责声明：本文内容由开放的智能模型自动生成，仅供参考。