天眼查App显示，2025年6月6日，「气体喷淋头及等离子体处理装置」正式进入专利权的授权阶段。申请人为中微半导体设备（上海）股份有限公司，该项半导体设备专利涉及气体喷淋头及等离子体处理装置的技术改进。据专利信息显示，气孔内耐腐蚀涂层致密度高，能有效降低颗粒污染物的产生，实现显著优化的效果。发明人为朱生华、杜若昕和丛海。本实用新型公开一种气体喷淋头及等离子体处理装置，具体包括喷淋头主体、若干气孔以及耐腐蚀涂层。其中，第一气孔段的长度和其直径的比例为2：1～5：1，能够提升工艺气体输出的稳定性与可靠性。

免责声明：本文内容由开放的智能模型自动生成，仅供参考。