天眼查App显示，2025年6月6日，「一种碳化硅衬底粗抛用酸性氧化铝抛光组合物及抛光方法」正式进入专利的公布阶段。申请人为武汉鼎泽新材料技术有限公司、鼎泽（仙桃）新材料技术有限公司、湖北鼎龙新材料有限公司和湖北鼎龙控股股份有限公司，该项新材料专利涉及碳化硅衬底的高效抛光技术。据专利信息显示，该技术能够显著优化碳化硅衬底表面粗糙度，实现高速率、高质量抛光效果。发明人为李智霖、肖桂林、徐阳、刘子龙、李博和夏元玲。专利摘要指出，该抛光组合物包括氧化铝磨料、分散剂、悬浮剂、pH调节剂和水，其中悬浮剂选自壳聚糖负载磺化金属酞菁、纤维素负载磺化金属酞菁、甲壳素负载磺化金属酞菁、壳聚糖负载青蒿素或纤维素负载青蒿素中至少一种。在紫外光辅助作用下，形成的羟基自由基·OH或产生活性氧与碳化硅衬底发生氧化反应生成较软的表面改性层，从而降低表面硬度，达到优异的抛光性能。

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