天眼查App显示，2025年6月27日，《一种四氟化硅纯化方法及四氟化硅深度净化用改性活性炭的制备方法》正式进入专利公布阶段。申请人为多氟多新材料股份有限公司，该项无机化学专利涉及四氟化硅气体提纯技术领域。据专利信息显示，该方法通过分步吸附、氨气反应与精馏工艺，结合特制改性活性炭材料，使四氟化硅气体纯度达到6N级以上，且改性活性炭吸附饱和时间延长，使用周期显著优化。发明人为李世江、李凌云、陈秋艳、王千金、吴海峰、马玉、刘海霞、闫春生。本发明提供了一种四氟化硅纯化方法及四氟化硅深度净化用改性活性炭的制备方法，属于四氟化硅纯化技术领域，本发明的四氟化硅纯化方法包括以下步骤：将四氟化硅原料气体依次使用活性炭和分子筛吸附，得到一次净化四氟化硅；向所述一次净化四氟化硅中通入氨气进行反应，气固分离，所得气体组分再用改性活性炭除杂，得到二次净化四氟化硅；所述改性活性炭的改性方法为：将活性炭与含氟气体在80~100℃下反应；将所述二次净化四氟化硅进行精馏，得到高纯度四氟化硅。

免责声明：本文内容由开放的智能模型自动生成，仅供参考。