天眼查App显示，2025年7月25日，《薄膜及其制备方法、光电器件、显示装置》专利正式进入公布阶段。申请人为TCL科技集团股份有限公司，该项光电显示专利涉及薄膜结构及其在光电器件中的应用。据专利信息显示，该薄膜通过引入包括富瓦烯或其衍生物的第一修饰材料，使得N型半导体材料之间形成稳定化学键，从而显著优化薄膜结构稳定性并减少裂纹现象。发明人为袁密、芦子哲。本申请实施例提供的薄膜中含有第一修饰材料，第一修饰材料包括富瓦烯和/或富瓦烯衍生物，由于富瓦烯和富瓦烯衍生物均可以与N型半导体材料之间形成稳定的化学键，使得薄膜中的N型半导体材料可以连接起来，形成稳定结构，从而可以改善或消除薄膜的裂纹现象。

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