天眼查App显示，2025年9月5日，湖北久之洋红外系统股份有限公司的「一种高透过深截止的中红外负滤光片及其制备方法」正式进入专利的公布阶段。申请人为湖北久之洋红外系统股份有限公司，该项光学专利涉及中红外负滤光片设计及中红外探测领域。据专利信息显示，该中红外负滤光片实现了中红外波段3.7-4.0μm和4.5-4.8μm的高透过、4.1-4.4μm的高截止性能，具有通带透过率高、截止深度高、膜系结构简单、稳定性高等优点。发明人为李维、徐旭、何光宗。本发明的中红外负滤光片包括基底，并且在基底两侧表面分别设有负滤光膜系和增透膜系；所述负滤光膜系为SiO膜层与Ge膜层交替层叠得到的非周期Ge/SiO多层膜，多层膜层数共计31层；所述增透膜系为SiO膜层与Ge膜层交替层叠得到的非周期Ge/SiO多层膜，多层膜层数共计5层。

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