SK海力士计划在未来两年内新增约20台ASML的EUV光刻系统，使其EUV设备保有量达到当前规模的两倍。目前该公司已拥有约20台用于研发和生产的EUV机台。

在内存领域，SK海力士自2021年在1a nm DRAM生产中实现EUV工艺商业化后，持续扩大该技术在各代内存产品中的应用范围。

受AI发展带动的企业级高性能存储需求增长影响，特别是对HBM产品的高需求，推动SK海力士加快先进DRAM产能扩张，进而增加对EUV设备的需求。

除广泛使用的Low-NA EUV光刻机外，SK海力士已于本月在韩国利川M16生产基地部署业界首台量产型High-NA EUV光刻机——ASML TWINSCAN EXE:5200B，标志着其在先进制程上的进一步布局。

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