天眼查App显示，2025-10-03，「清洗设备」正式进入专利的公布阶段。申请人为北京北方华创微电子装备有限公司，该项半导体制造设备专利涉及晶圆清洗工艺中的气体流场调控技术应用场景描述。据专利信息显示，通过在腔体顶部设置具有多个不同进气结构的第一导流部件，实现进入腔体的气体流速差异化分布，显著优化了清洗过程中流场稳定性，解决了工艺空间与环境空间相互干扰的问题。发明人为郑士杰;赵宏宇;张超旗。本发明提供一种清洗设备，包括：腔体，腔体中设置有用于承载晶圆的晶圆承载装置；以及第一导流部件，设置于腔体顶部，且第一导流部件对应其下表面的多个不同区域分别设置有多个不同的进气结构，且通过不同的进气结构进入腔体的气体流速不同。本方案可以解决流场不稳定、工艺空间和环境空间之间相互干扰等问题。

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