天眼查App显示，2025-10-10，「进气装置、工艺腔室及半导体工艺设备」正式进入专利的公布阶段。申请人为北京北方华创微电子装备有限公司，该项半导体设备专利涉及半导体工艺中的气体分布控制技术场景。据专利信息显示，通过配气腔室与匀流件的协同设计，显著优化了进气均匀性，有效解决传统进气装置因气流不均影响工艺稳定性的技术难题。发明人为宗凯;余江浦。本申请公开一种进气装置、工艺腔室及半导体工艺设备，所公开的进气装置包括配气腔室和匀流件；配气腔室具有第一内腔、第一流入孔和多个第一匀流孔，第一流入孔和多个第一匀流孔均与第一内腔连通，多个第一匀流孔均设于配气腔室的底壁；匀流件设于第一内腔中，且将第一内腔分隔为第一子腔和第二子腔，匀流件具有多个第二匀流孔，第一子腔和第二子腔分别通过多个第二匀流孔连通，第一子腔与第一流入孔连通，多个第一匀流孔分别与第二子腔连通。上述方案能解决相关技术涉及的进气装置存在匀流效果不佳而影响工艺效果的问题。

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