三星3nm、2nm良率超60%和40% 正评估性能

13日消息,三星电子的3nm和2nm制程基于GAA晶体管结构,良率分别超过60%和40%。目前,三星正与英伟达、高通等外部客户合作,对2nm工艺性能进行最后评估。此举旨在提升先进制程竞争力,争取更多订单。

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