科技媒体PatentlyApple报道，苹果公司近日获批一项涉及下一代Face ID技术的新专利，计划从现有的衍射光学元件（DOE）转向更先进的“超表面光学元件”（MOE）。目前，Face ID依赖DOE生成点状照明图案以实现3D映射，但传统结构光投影模组需多个光学元件，尽管体积已足够小巧，仍有优化空间。
新专利提出的MOE技术将光束分割与准直功能集成于单一扁平元件中，不仅缩小了模组体积，降低了生产成本，还简化了组装流程。此外，MOE能调整光轴倾斜角度，使点状图案与摄像头视野更好重叠，提升3D映射精度，同时支持灵活切换点状与泛光照明模式，适应不同场景需求。
