SK海力士宣布，已将阿斯麦（ASML）推出的全球首款量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV）TWINSCAN EXE:5200B引入韩国利川M16工厂。此举标志着其在先进DRAM制造领域的持续突破。自2021年将EUV技术首次应用于第四代10纳米工艺以来，SK海力士不断拓展该技术的量产边界。新设备数值孔径提升至0.55，晶体管刻蚀尺寸缩小1.7倍，密度提升达2.9倍，性能增强约40%，为下一代半导体工艺奠定基础。

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