2026年2月，深圳普雨科技有限公司完成A+轮融资，由零一创投与普丰资本联合投资。该公司专注于纳米压印半导体光刻设备研发与产业化，面向集成电路、半导体及泛半导体领域提供微纳制造解决方案。本轮融资将用于加速核心设备量产、技术迭代及市场拓展。普雨科技成立于2021年，总部位于深圳，已组建具备光刻系统、纳米压印工艺和精密机械背景的跨学科团队。此次融资标志着其技术从实验室验证迈向规模化商业应用的关键一步。

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