11月5日，第九届中国国际进口博览会在上海国家会展中心开幕。上海微电子装备（SMEE）携自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型参展，展示我国前道光刻装备自主化阶段性成果。该平台适配I-line、KrF光源，核心光学、工件台、传输及传感系统实现全链条自主可控。目前国产设备成像性能达国际同类领先水平，多台已在国内头部逻辑与存储产线稳定运行，累计流片超千万片，有效运行率超92%。

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