天眼查App显示，2025年6月13日，「TiSiN涂层的制备方法及其角度调节装置」正式进入专利公布阶段。申请人为武汉理工大学和厦门钨业股份有限公司，该项材料表面处理专利涉及一种有效减少球形颗粒缺陷、提升涂层性能的技术方案。据专利信息显示，该发明通过优化沉积参数，能够显著优化TiSiN涂层的质量。发明人为章嵩、林亮亮、涂溶和张联盟。

本发明提出的制备方法包括：清洗单晶硅基底后将其固定在角度调节装置上，将基底相对靶材的角度设置完成后固定单晶硅基底，单晶硅基底面与靶材表面的夹角为40度~60度；将转架推入电弧离子镀设备的腔体中，依次进行粗抽和精抽以抽至高真空状态，并启动加热电源对腔体进行加热；向腔体中通入氩气，并对基底进行辉光清洗后，开启阳极离子源对基底表面进行蚀刻；向腔体中通入一定流量比的氩气和氮气，设置沉积参数后，开启多弧TiSi靶进行沉积。此技术能够在不显著增加成本的前提下，有效减少TiSiN涂层中的球形颗粒缺陷，从而提升了涂层的性能。

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