天眼查App显示，2025年7月8日，安集微电子科技（上海）股份有限公司申请的「一种微型可调混液装置及一种对碱性抛光液抛光铜后产生的铜绿清洗的工艺方法」专利正式进入专利的公布阶段。该项半导体制造专利涉及对碱性抛光液化学机械抛光铜后产生的铜绿进行清洗的工艺方法，并结合一种微型可调混液装置，以实现有效利用酸性清洗剂（柠檬酸）去除铜绿的目的。据专利信息显示，该技术方案显著优化了晶圆抛光后的清洗效果，降低了副产物对后续工艺的影响，同时延长了抛光垫使用寿命，有助于提升生产效率并降低维护成本。发明人为徐彦廷;杜铭宇;钱宁开。本发明摘要指出，该方法能够有效解决铜绿残留问题，适用于高精度半导体制造场景。

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