天眼查App显示，2025年7月8日，「一种化学机械抛光液」专利正式进入专利的公布阶段。申请人为安集微电子科技（上海）股份有限公司，该项材料应用专利涉及化学机械抛光技术领域。据专利信息显示，该抛光液包含二氧化硅研磨颗粒、唑类化合物、有机羧酸、烷基甜菜碱和双氧水，可满足阻挡层抛光过程中对各种材料的抛光速率和选择比要求，并能有效降低抛光后晶圆表面缺陷数量，实现显著优化的抛光效果。发明人为姚颖、荆建芬、邱欢、汪国豪、陆弘毅、蔡鑫元、朱一明、周文婷、王拓、蒋文玉。本发明适用于阻挡层平坦化工艺，具有广泛的应用前景。

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