天眼查App显示，2025年7月11日，《一种钕铁硼磁体及其制备方法和应用》正式进入专利的公布阶段。申请人为天津三环乐喜新材料有限公司、北京中科三环高技术股份有限公司，该项基本电气元件专利涉及钕铁硼磁体的技术领域。据专利信息显示，本发明提供的钕铁硼磁体能够提高有机层与铜层之间的结合力，能够适用于磕碰等环境，进一步保证钕铁硼基体的耐腐蚀性能，相关性能提升达突破性进展。发明人为张龙、仉新功、贺元辉、于海华、白晓刚、潘广麾。本发明提供的钕铁硼磁体组件包括依次设置的钕铁硼基体、铜层和有机层；自所述钕铁硼基体向外，所述铜层包括铜基体层和铜表面处理层；所述铜表面处理层的粗糙度Ra为0.25～0.40μm，所述铜表面处理层的材质包括铜氧化物，所述铜表面处理层与所述钕铁硼基体之间被所述铜基体层完全隔离开。

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