天眼查App显示，2025年5月2日，「用于制备滤光片图案的方法、滤光片及电子设备」正式进入专利公布阶段。申请人为合肥晶合集成电路股份有限公司，该项光学专利涉及滤光片制备技术领域。据专利信息显示，通过预先构建的预设蚀刻配方数据库存储蚀刻配方、前程结构参数和目标结构参数的映射关系，能够显著优化滤光片生产流程，提高生产效率。发明人为何小帝、冯文辉。 「本披露公开了一种用于制备滤光片图案的方法、滤光片及电子设备。该方法包括：对滤光片基料进行图案的初步刻蚀，以得到滤光片半成品；获取滤光片半成品的前程结构参数；确定目标图案的目标结构参数；在预设蚀刻配方数据库中筛选出能够将前程结构参数刻蚀成目标结构参数的蚀刻配方；以及利用蚀刻配方对滤光片半成品进行刻蚀，以得到具有目标图案的滤光片。通过本披露实施例的方案，能够通过预先构建的预设蚀刻配方数据库来存储蚀刻配方、前程结构参数和目标结构参数的映射关系，从而通过查表方式针对不同的前程刻蚀结果自动识别对应的蚀刻配方，进而提高滤光片的生产效率。」

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