天眼查App显示，2025年5月2日，「基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备」正式进入专利的公布阶段。申请人为盛美半导体设备（上海）股份有限公司、盛美半导体设备韩国有限公司及清芯科技有限公司，该项清洁领域专利涉及半导体制造中的基板清洗技术。据专利信息显示，该技术实现了提升基板背面清洗效果的技术效果及显著优化清洗效率。发明人为王晖、吴均、吴岩、徐飞、袁凯杰、李康植。 「本申请公开了一种基板清洗装置、清洗方法及涂胶显影设备，该基板清洗装置包括卡盘主体；若干夹持件，呈圆形排布于卡盘主体表面，用于夹持基板，并带动基板自转；背面清洗机构，用于在基板自转期间，对基板靠近卡盘主体的一面进行清洗；卡盘驱动机构，与卡盘主体连接，用于驱动卡盘主体旋转以甩干完成清洗的基板。」

免责声明：本文内容由开放的智能模型自动生成，仅供参考。