天眼查App显示，2025年8月1日，合肥埃科光电科技股份有限公司的「多层介质测量方法及系统」正式进入专利的公布阶段。申请人为合肥埃科光电科技股份有限公司，该项测量测试专利涉及多层透明介质材料的厚度及折射率测量技术。据专利信息显示，该方法通过获取多层介质透明样品的光谱图，结合样品整体厚度及各介质层折射率，计算出各介质层的厚度，为无法返回中间介质有效信息的测量场景提出了有效解决方案，技术效果实现「突破性进展」。发明人为白皓轩、黄长江、唐俊峰、杨晨飞、曹桂平、董宁。专利摘要中指出，该技术适用于由两种介质层贴合形成的多层透明样品，尤其在贴合处无法返回光谱信号的情况下，依然能够实现精准测量。

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