天眼查App显示，2025年8月1日，「一种高致密性二氧化硅膜层制备方法」正式进入专利的公布阶段。申请人为安徽立光电子材料股份有限公司，该项材料镀覆专利涉及二氧化硅膜层的制备，适用于光学和电子领域。据专利信息显示，该方法制备的二氧化硅膜层致密性高，孔隙率低，机械强度和化学稳定性优异，透光率高，并可根据需求调整膜层厚度和表面性能。发明人为周健、朱磊。本发明通过基片准备、真空室准备、溅射过程和薄膜后处理等步骤，实现了制备工艺简单、成本低、易于规模化生产的技术效果。

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