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上海新阳半导体材料股份有限公司推出新型清洗液专利
上海新阳半导体材料股份有限公司近日公开了一项新型清洗液专利，该清洗液具有优异的稳定性和清洗效果，适用于半导体制造中的多种应用场景。
2025-01-01
上海新阳半导体材料股份有限公司发布新型清洗液专利
上海新阳半导体材料股份有限公司近日公开了一项新型清洗液专利，该清洗液具有优异的清洗效果和腐蚀选择性，适用于半导体制造过程中的多种材料处理。
2025-01-01
上海新阳半导体材料股份有限公司推出新型半导体芯片清洗液
上海新阳半导体材料股份有限公司近日公开了一项新型清洗液的发明专利，该清洗液专用于清洗刻蚀灰化后的半导体芯片，具有优异的清洗和腐蚀效果。
2024-12-31
上海新阳半导体材料股份有限公司发明新型清洗液制备方法
上海新阳半导体材料股份有限公司近日公开了一项新型清洗液的制备方法专利，该清洗液不含氟化铵和金属离子，具有优异的清洗和腐蚀效果。
2024-12-31
上海新阳半导体材料股份有限公司公开新型清洗液制备方法
上海新阳半导体材料股份有限公司近日公开了一种新型清洗液的制备方法，该方法通过特定组分的混合，显著提升了清洗效果，且不含金属离子。
2024-12-31
上海新阳半导体材料股份有限公司研发新型半导体清洗液
上海新阳半导体材料股份有限公司近日公开了一项新型半导体清洗液的发明专利，该清洗液专为刻蚀灰化后的半导体芯片设计，具有优异的清洗效果和选择性。
2024-12-31
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